Huawei avrebbe sviluppato strumenti EDA per i 14 nm

Secondo quanto annunciato recentemente, gli strumenti EDA sono assolutamente cruciali nella produzione di chip, nonostante non siano direttamente coinvolti nella produzione di semiconduttori. Invece, questi strumenti vengono utilizzati per progettare e convalidare il processo per garantire che soddisfi requisiti specifici. Senza queste macchine, aziende come Xiaomi non possono superare il limite dei 3 nm nello sviluppo dell’XRING 02, poiché la tecnologia a 2 nm di TSMC presenta una struttura Gate-All-Around Field-Effect Transistor (GAAFET), che richiede questi complessi strumenti EDA. Poiché l’amministrazione Trump ha vietato l’esportazione di questo componente fondamentale, un rapporto sostiene che Huawei ha aggirato con successo questi ostacoli e ha prodotto le proprie soluzioni.

Sfortunatamente, un ostacolo importante nel percorso di Huawei è l’acquisizione di macchine EUV di nuova generazione che le consentano di produrre wafer con processo a 5 nm e inferiore senza problemi di resa. Attualmente, Huawei si affida alle apparecchiature DUV di SMIC per la produzione di massa del Kirin 9020 sul processo a 7 nm, ma il suo partner SiCarrier starebbe lavorando su alternative EUV che potrebbero eguagliare le macchine di ASML. In precedenza si era detto che l’azienda stava raccogliendo una somma di 2,8 miliardi di dollari per alimentare i suoi obiettivi, ma potrebbero volerci ancora alcuni anni prima che Huawei raggiunga l’autonomia in questo settore.